マイクロン、広島工場に1.5兆円投資 経産省5000億円支援、次世代メモリー生産へ

米半導体大手マイクロン・テクノロジーは広島工場の大規模拡張工事に着手した。総投資額は約1.5兆円に上り、経済産業省が最大5000億円を補助する。同社は次世代メモリーであるDRAMの生産拠点として広島を位置づけ、世界的な半導体需要の高まりに対応する。

今回の拡張計画では、広島工場内に新たなクリーンルームを建設し、最先端のEUV露光装置を導入する。生産開始目標は2026年以降で、最先端の1γ（ガンマ）世代のDRAMを量産する見通しだ。マイクロンは「広島は当社のグローバル生産ネットワークの中核拠点の一つ」と強調する。

経済産業省は半導体の安定供給と国内生産基盤の強化を目的に、同プロジェクトを「重要技術」に指定した。補助金は半導体製造装置や素材の国産化促進も狙い、関連企業への波及効果を見込む。政府は2021年以降、半導体分野に総額3兆円超の支援を公表している。

広島県や地元経済界は、拡張による雇用創出とサプライチェーン活性化に期待を寄せる。広島工場の従業員は現在約4000人だが、新棟の稼働でさらに1000人以上の追加雇用が見込まれる。周辺の半導体装置メーカーや素材メーカーへの受注増も予想される。

世界のDRAM市場は、データセンターやAI向け需要の拡大で今後も成長が見込まれる。台湾や韓国勢が先行する中、マイクロンは日本での生産強化で競争力を高める戦略だ。半導体の地政学リスクが高まるなか、日本の半導体産業復活の象徴として注目される。